压印微影模仁之制造方法

摘要

一种压印微影模仁之制造方法,系利用一低介电常数材料于低温烘烤时其结构转换之特性,只需配合一低剂量之电子束微影技术,即可制作出高硬度与高深宽比之压印微影制程之模仁,并减少后续之光阻底部残留层及反应离子蚀刻制程之蚀刻时间,进而增加最终光阻遮罩区域之厚度,以提高制程之稳定度与前后制程之整合度。另,本发明系适用于现有次微米(小于0.5m)线宽以下至奈米级(~10nm)线宽之压印微影模仁制程方法之重要解决的方案。