| 摘要 |
Verfahren zum Korrigieren oder Einstellen der lateralen kritischen Abmessung (d. h. Länge und Breite) eines Elementes, das in einer Schicht auf einem Substrat ausgebildet wird, unter Verwendung eines Trockenätzprozesses. Eine oder mehrere dünne Zwischenschichten werden in die Schicht eingefügt, in der das Strukturelement erzeugt werden soll. Sobald eine Zwischenschicht während des Ätzprozesses erreicht wird, wird ein Ätzprozess zum Korrigieren und/oder Einstellen der lateralen kritischen Abmessungen vor dem Ätzen durch die Zwischenschicht und dem Fortsetzen der Schichtätzung ausgeführt.
|
