一种光学补偿膜制法、以及具有该光学补偿膜之偏光板

摘要

一种光学补偿膜制法，主要系藉由在一基材上先后积层一配向层与一光阻滞材料所构成。藉由本光学补偿膜之配向层材料以紫外线照射以产生交链化学反应的过程中，使其暴露于空气环境(含氧量不低于10％浓度)并提供浓度为0.5％~10％的光起始剂。因而控制使配向层材料可对基材达成较佳之密着，且同时控制表面残留适量之活性压克力基，而使得后续之光阻滞材料得以顺利密着于配向层上。利用此制法可达到将光学补偿膜直接内建在偏光板上的目的。如此，偏光板不仅因具有光学补偿效果而有较佳视角范围与显示品质，且厚度亦较用技术相对较低，透光率与光学特性因此也相对较佳者。

主权项

1.一种光学补偿膜制法,包括有下列步骤: (A)在一透明基板上涂覆一配向层; (B)以介于0.5%~10%之光起始剂浓度、且在含氧量不 低于10%之环境下,以紫外光照射该配向层,使配向 层表面留下部分未反应完成之活性压克力基; (C)在配向层上涂覆光线阻滞材料,于配向层表面所 残留之活性压克力基可使光线阻滞材料中所含之 多数光线阻滞粒子更易于结合于配向层表面上;以 及 (D)以紫外光照射该配向层与光线阻滞材料; 其中,该光线阻滞材料结合配向层可对特定波长之 光产生预定角度与方向之阻滞,以提供光学补偿作 用。 2.如申请专利范围第1项所述之光学补偿膜制法,其 中,该配向层至少包括寡聚化合物材料(Oligomer)。 3.如申请专利范围第2项所述之光学补偿膜制法,其 中,该寡聚化合物(Oligomer)可为PU或polyester聚酯系的 UV紫外光型压克力(Arcrylate)树脂,其平均分子量可 在200~4500等范围之间、黏度可以在5000~100000之间, 官能基数可以由双官能基到六官能基。 4.如申请专利范围第1项所述之光学补偿膜制法,其 中,该光起始剂的浓度系更进一步限制于2%~5%范围 内。 5.如申请专利范围第1项所述之光学补偿膜制法,其 中,该紫外光照射的强度系为30mj/cm2~1000mj/cm2,且该 含氧量系不小于10%浓度的环境系为空气环境。 6.如申请专利范围第1项所述之光学补偿膜制法,其 中,该透明基板系由包括三乙醯基纤维素之TAC板所 构成。 7.如申请专利范围第1项所述之光学补偿膜制法,其 中,在该透明基板上同时设有一偏光薄膜,而可提 供光学补偿以及偏光功能。 8.如申请专利范围第1项所述之光学补偿膜制法,其 中,该涂覆有配向层以及液晶材料之该透明基板系 为满足nx=nyny=nz关系且可简称为A-Plate薄膜;其中,nx 为表示在光线阻滞薄膜表面上之一X轴方向上之折 射率、ny为表示在光线阻滞薄膜表面上之一y轴方 向上之折射率、且nz为表示在光线阻滞薄膜厚度 上之一z轴方向上之折射率; (I)将第一光线阻滞薄膜藉由一压力感应黏胶贴覆 在涂覆有配向层以及液晶材料之该透明基板上。 15.如申请专利范围第14项所述之光学补偿膜制法, 其中,该第一光线阻滞薄膜更满足有Ro=0.1~220nm条件 ,其中,Ro=(nx-ny)*d,且d为光线阻滞薄膜之厚度。 16.如申请专利范围第15项所述之光学补偿膜制法, 其中,该第一光线阻滞薄膜(简称A-Plate薄膜)之Ro値 系更进一步限制于Ro=80~130nm之范围内。 17.一种具有光学补偿膜之偏光板制法,包括有下列 步骤: (a)提供一已设有偏光薄膜之偏光板; (b)在该偏光板上涂覆一配向层; (c)以介于0.5%~10%之光起始剂浓度、且在含氧量不 低于10%环境下,以紫外光照射该配向层,使配向层 表面留下部分未反应完成之活性压克力基; (d)在配向层上涂覆光线阻滞材料,于配向层表面所 残留之活性压克力基可使光线阻滞材料中所含之 多数光线阻滞粒子更易于结合于配向层表面上;以 及 (e)以紫外光照射该配向层与光线阻滞材料; 其中,该光线阻滞材料结合配向层可对特定波长之 光产生预定角度与方向之阻滞,以提供光学补偿作 用。 18.如申请专利范围第17项所述之具有光学补偿膜 之偏光板制法,其中,该配向层系直接涂覆于透明 基板已设有偏光薄膜之相同表面上。 19.如申请专利范围第17项所述之具有光学补偿膜 之偏光板制法,其中,该配向层至少包括寡聚化合 物材料(Oligomer)。 20.如申请专利范围第17项所述之具有光学补偿膜 之偏光板制法,其中,该紫外光照射的强度系为30mj/ cm2~ 1000mj/cm2,且该含氧量系不小于10%浓度之环境系 为空气环境。 21.一种依据申请专利范围第17项所述之制法所制 成之偏光板,其特征在于:该光线阻滞材料系直接 结合在配向层上、且配向层系直接结合在偏光板 上。 22.如申请专利范围第21项所述之偏光板,其中该偏 光板系包括有: 一第一透明基板,用以提供偏光板结构之强度与硬 度; 一偏光薄膜,形成于该第一透明基板;以及 至少一光线阻滞薄膜,直接形成于偏光薄膜上,使 第一透明基板、偏光薄膜与至少一光线阻滞薄膜 成为一体之结构。 23.一种具有光学补偿膜之偏光板,包括有: 一偏光板,该偏光板具有包括两透明基板以及夹置 于两透明基板之间的一偏光薄膜;以及 至少一光线阻滞薄膜,直接形成于该偏光板之其中 之一透明基板上,且该光线阻滞薄膜与该透明基板 之间并无黏胶也无任何其他材质。 24.如申请专利范围第23项所述之偏光板,其中该光 线阻滞薄膜系包括有: 一配向层,直接涂覆于该透明基板上;以及, 一光线阻滞材料,涂覆于该配向层上; 其中,该光线阻滞材料结合配向层可对特定波长之 光产生预定角度与方向之阻滞,以提供光学补偿作 用。 25.如申请专利范围第24项所述之偏光板,其中,在将 配向层与光线阻滞材料依序涂覆于透明基板上的 过程中,更藉由介于0.5%~10%之光起始剂浓度、且在 含氧量不低于10%之空气环境下,以紫外光照射该配 向层,使配向层表面留下部分未反应完成之活性压 克力基,使光线阻滞材料中所含之多数光线阻滞粒 子更易于结合于配向层表面上。 26.如申请专利范围第24项所述之偏光板,其中,该光 线阻滞薄膜系为满足nx=nyny=nz关系且可 简称为A-Plate薄膜;其中,nx为表示在光线阻滞薄膜 表面上之一X轴方向上之折射率、ny为表示在光线 阻滞薄膜表面上之一y轴方向上之折射率、且nz为 表示在光线阻滞薄膜厚度上之一z轴方向上之折射 率。 29.如申请专利范围第28项所述之偏光板,其中,该第 一光线阻滞薄膜更满足有Ro=0.1~220nm条件,其中,Ro=( nx-ny)*d,且d为光线阻滞薄膜之厚度。 图式简单说明: 图一A系为一典型的传统液晶显示器的剖面示意图 。 图一B系为图一A所示之传统液晶显示器的视角范 围之对比曲线图。 图二为习知于液晶显示器之偏光板上增设光学补 偿膜的生产流程示意图。 图三系为本发明之光线阻滞薄膜之制法的示意流 程图。 图四A与图四B系为图示说明图三流程图之动作。 图五系为涂覆有配向层材料之透明基板,在纯氮且 光起始剂浓度大于10%的环境下进行紫外线照射其 多数光线阻滞粒子与配向层材料附着结合状态的 示意图。 图六系为涂覆有配向层材料之透明基板,在空气中 且光起始剂浓度介于0.5~10%的环境下进行紫外线照 射,其多数光线阻滞粒子与配向层材料附着结合状 态的示意图。 图七系为将图三、图四A与图四B所示流程所制成 之光线阻滞薄膜直接内建到一偏光板上以取代偏 光板原有之两透明基板其中之一的制造流程实施 例示意图。 图八系为将图七所示流程所制成之内建有光线阻 滞薄膜之偏光板再增加贴覆另一层光线阻滞薄膜 的制造流程实施例示意图。 图九系为本发明整合前述图三至图八所述制程来 制造本发明内建有光线阻滞薄膜之偏光板的一制 造流程实施例图。