基于双溶剂的精密组件清洗方法、设备及系统

摘要

本发明揭示一种如在图1中所示的双溶剂清洗系统(100)，其用于清洗精密组件且不使用VOC溶剂。清洗系统包括清洗部分(104)、漂洗部分(106)及溶剂回收部分(108)。双溶剂清洗系统提供一种使用不含VOC的溶剂来清洗及漂洗精密组件的双模式作业，该不含VOC的与现有技术的基于VOC溶剂的系统一样有效、同时随后允许该不含VOC的溶剂的回收及重新利用。

主权项

1.一种用于清洗精密组件的方法，其特征是包括：通过将精密组件置于装有第一溶剂的清洗槽内来清洗所述精密组件，以去除所述精密组件上的污染物；在装有第二溶剂的漂洗槽中漂洗所述精密组件，其中通过所述第二溶剂以去除所述精密组件上所述第一溶剂的任何残余量，从而形成溶剂混合物；及通过冷却所述溶剂混合物以使第一溶剂部分位于第二溶剂部分顶上，来将回收槽中所述溶剂混合物分离成所述第一溶剂部分及所述第二溶剂部分，所述第一溶剂部分与所述第二溶剂部分可由裸眼进行目视区分，且其中可从所述回收槽中去除所述第一溶剂部分。