| 发明名称 | 溅镀靶材 | ||
| 摘要 | 一种溅镀靶材，包含有至少一第一溅镀面与至少一第二溅镀面，该第二溅镀面邻设于该第一溅镀面之侧，且第二溅镀面相对于第一溅镀面呈倾斜状；由此，利用调整与改变第一溅镀面与第二溅镀面的设置位置，以及第二溅镀面相对于第一溅镀面的倾斜角度，即可控制溅镀靶材沉积于一基板表面所形成薄膜的分布状态，使得原本膜厚较厚的区域补偿至膜厚较薄的区域，进而所形成的薄膜膜厚较为均匀。 | ||
| 申请公布号 | CN101063193A | 申请公布日期 | 2007.10.31 |
| 申请号 | CN200610078102.0 | 申请日期 | 2006.04.26 |
| 申请人 | 胜华科技股份有限公司 | 发明人 | 朱冠宇;黄敬佩;陈逸书;林昆锋 |
| 分类号 | C23C14/34(2006.01) | 主分类号 | C23C14/34(2006.01) |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 周长兴 |
| 主权项 | 1.一种溅镀靶材，包含有至少一第一溅镀面与至少一第二溅镀面，该第二溅镀面邻设于该第一溅镀面，且该第二溅镀面相对于该第一溅镀面呈倾斜状。 | ||
| 地址 | 台湾省台中县 | ||