发明名称 HEATING DEVICE OF PURGE GAS FOR SEMICONDUCTOR WAFER
摘要
申请公布号 KR100754827(B1) 申请公布日期 2007.09.04
申请号 KR20050026440 申请日期 2005.03.30
申请人 发明人
分类号 H01L21/02 主分类号 H01L21/02
代理机构 代理人
主权项
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