曝光装置及装置制造方法

摘要

一种曝光装置(1)具有投射光学系统(30)，其用于投射光罩的图案于基底上，并经由供应于该投射光学系统(30)与该基底(40)之间的空间中之液体曝光该基底(40)。该曝光装置包含具有两个气体供应口(103a与103b)之气幕产生器，其用以供应气体至该液体的周边并用以限制该液体，该两个气体供应口(103a与103b)供应不同种类的气体(PG1与PG2)。