发明名称 制造钼钛溅镀靶座及靶材之方法
摘要 本发明提供钼钛溅镀靶材。在一态样中,靶材实质上不具有β(Ti, Mo)合金相。在另一态样中,靶材实质上包含单一相β(Ti,Mo)合金。在两态样中,减少了溅镀期间的粒子排放。本发明亦提供备制靶材的方法、将靶材接合在一起以制造大面积溅镀靶材的方法及由靶材制造膜层的方法。
申请公布号 TW200720448 申请公布日期 2007.06.01
申请号 TW095138492 申请日期 2006.10.19
申请人 史达克公司 发明人 葛都斯;古柏翰;米史帝;米尔斯;罗萨克;许尔斯;吴荣祯
分类号 C22C27/04(2006.01);C22C27/00(2006.01);C22C1/04(2006.01);C23C14/34(2006.01);G09G3/36(2006.01) 主分类号 C22C27/04(2006.01)
代理机构 代理人 蔡中曾;黄庆源
主权项
地址 美国