| 发明名称 | 紫外光照射装置以及光清洗装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种紫外光照射装置以及使用该装置的光清洗装置，即抑制在大气中对工件照射真空紫外光时真空紫外光的衰减，同时可以适当地管理臭氧以及活性氧的浓度。紫外光照射装置(UVE)具有产生真空紫外光的受激准分子放电灯(EXL)；点亮受激准分子放电灯的高频点灯电路(HFI)；惰性气体环境形成装置(IGB)，该惰性气体环境形成装置朝向受激准分子放电灯的真空紫外光照方向在工件(W)的周围形成惰性气体浓厚的环境；氧气环境形成装置(O<SUB>2</SUB>B)，该氧气环境形成装置在沿着工件的移动方向与惰性气体环境形成位置相分离的位置上，朝向受激准分子放电灯的真空紫外光照射方向在工件周围形成氧气浓厚的环境。 | ||
| 申请公布号 | CN1937102A | 申请公布日期 | 2007.03.28 |
| 申请号 | CN200610126514.7 | 申请日期 | 2006.08.25 |
| 申请人 | 哈利盛东芝照明株式会社 | 发明人 | 藤田义贵 |
| 分类号 | G21K5/00(2006.01);H01J65/00(2006.01) | 主分类号 | G21K5/00(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市中咨律师事务所 | 代理人 | 段承恩;杨光军 |
| 主权项 | 1.一种紫外光照射装置，其特征在于，具有：产生真空紫外光的受激准分子放电灯；点亮受激准分子放电灯的高频点灯电路；惰性气体环境形成装置，该惰性气体环境形成装置朝向受激准分子放电灯的真空紫外光照射方向在工件的周围形成惰性气体浓厚的环境；和氧气环境形成装置，该氧气环境形成装置在沿着工件的移动方向与惰性气体环境形成位置相分离的位置上，朝向受激准分子放电灯的真空紫外光照射方向在工件周围形成氧气浓厚的环境。 | ||
| 地址 | 日本爱媛县 | ||