用以清洁光罩之装置及方法

摘要

本文揭示一种清洁一光罩之装置及方法，其防止在一微影制程中在该光罩之一表面上产生雾。该光罩经热处理来移除在其之一表面上之剩余离子且诱发Cr层与MoSiON层之固化及氧化，藉此防止该等离子之扩散。抑制由于一清洁制程所引起之Cr层与MoSiON层蚀刻，以便显着减少Cr与MoSiON之光学性质之相位与透射率之变化。