| 主权项 |
1.一种微影投影装置,其包括: 一标线片平台模组,其包括一用于支承一图案化构 件之支承结构,及一用于精确定位该支承结构之短 行程模组,该图案化构件用于根据一所需图案来图 案化一投影光束; 一基板平台,其用于固定一基板;及 一投影系统,其用于将该图案化光束投影至该基板 的一目标部分上,该投影系统具有一光轴, 其特征在于,该微影投影装置进一步包括一补偿器 ,该补偿器系构造且布置为可沿该光轴调节该标线 片平台模组之一部分之位置,以补偿由该图案化构 件的一光罩护膜所导致的该图案化构件之一图案 平面之虚偏移,该标线片平台模组之该部分至少包 括该短行程模组及支承结构。 2.根据申请专利范围第1项之装置,其中,该标线片 平台模组之该部分尚包括一用于粗定位该图案化 构件之长行程模组,及一用于支承该长行程模组之 支承架。 3.根据申请专利范围第1项或第2项之装置,其中,该 虚偏移相依于该护罩之一厚度及该投影光束之一 波长至少其中之一。 4.根据申请专利范围第1项或第2项之装置,其中,该 补偿器尚包括一用于沿该光轴调节该图案平面之 该位置的分隔结构。 5.根据申请专利范围第1项或第2项之装置,其中,该 补偿器尚包括一调整元件,该调整元件用于调整该 投影系统以使其焦平面之一位置与该图案平面相 重合。 6.根据申请专利范围第5项之装置,其中,该调整元 件藉由相对于该投影系统之一光学元件修改该投 影系统之另一光学元件之位置来调整该投影系统 之焦平面。 7.根据申请专利范围第5项之装置,其中,该调整元 件藉由在该光径中设置一透射材料层作为一虚设 护膜以达成对该投影系统之该焦平面之一修正之 方式,调整该投影系统之焦平面。 8.根据申请专利范围第5项之装置,其中,该调整元 件藉由在该光径中设置一光学元件作为一虚设护 膜以达成对该投影系统之该焦平面之一修正之方 式,调整该投影系统之焦平面。 9.根据申请专利范围第1项或第2项之装置,其中,该 补偿器包括一用于沿该光轴调节该图案平面之该 位置的致动器。 10.根据申请专利范围第9项之装置,其中,该装置包 括一感测器,该感测器系建造且布置为可侦测该图 案平面之一位置,该致动器系建造且布置为可因应 该护膜之存在与否来调整该图案平面之该位置。 11.根据申请专利范围第9项之装置,其中,该装置包 括另一感测器,该感测器系建造且布置为可侦测一 护膜之存在与否,该致动器系建造且布置为可因应 该另一感测器所侦测的该护膜之存在与否来调整 该图案平面之该位置。 12.一种用于一微影投影装置之元件制造方法,该微 影投影装置包括: 一标线片平台模组,其包括一用于支承一图案化构 件之支承结构,及一用于精确定位该支承结构之短 行程模组,该图案化构件用于根据一所需图案来图 案化一投影光束; 一基板平台,其用于固定一基板;及 一投影系统,其用于将该图案化光束投影至该基板 的一目标部分上,该投影系统具有一光轴, 该方法包含如下步骤: 提供一基板,该基板至少部分覆盖有一辐射敏感材 料层; 利用一辐射系统提供一辐射投影光束; 利用图案化构件于该投影光束之横剖面上赋予该 光束一图案;及 利用一投影系统将该图案化辐射光束投影于该辐 射敏感材料层之一目标部分上, 该方法之特征在于,其进一步包含如下步骤:沿该 光轴修改该标线片平台模组之一部分之位置以补 偿因该图案化构件的一光罩护膜而导致的该图案 化构件之一图案平面之虚偏移,该标线片平台模组 之该部分至少包括该短行程模组及该支承结构。 13.根据申请专利范围第12项之元件制造方法,其特 征在于,进一步调整该投影系统以使其焦平面之一 位置与该图案平面相重合,从而补偿该虚偏移。 图式简单说明: 图1展示一本发明实施例之微影投影装置; 图2示意性展示一配备有一护膜之标线片之剖视图 ; 图3示意性展示发生于光罩护膜中之光学折射对形 成于标线片平面上的光径之影响; 图4展示一用于一无光罩护膜之标线片的本发明微 影投影装置之第一实施例; 图5展示一用于一具有光罩护膜之标线片的本发明 微影投影装置之第一实施例; 图6展示一本发明微影投影装置之第二实施例;及 图7展示一本发明微影投影装置之第三实施例。 图8展示一毗邻标线片的欲吹扫空腔之一实施例, 其中壁元件设置于一短行程模组上。 图9展示一邻接标线片的欲被吹扫空腔之一实施例 ,其中壁元件设置于一支架上。 图10阐释一用于调整投影系统之调整元件。 |
