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发明名称 Method for forming a thin film in semiconductor device and manufacturing a non-volatile memory device using the same
摘要
申请公布号 KR100636022(B1) 申请公布日期 2006.10.18
申请号 KR20050029290 申请日期 2005.04.08
申请人 发明人
分类号 H01L21/205;H01L21/8247 主分类号 H01L21/205
代理机构 代理人
主权项
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