发明名称 METHOD FOR TREATING SILICONE-BASED MATERIAL TO BE TREATED, TREATMENT APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号 KR20060105588(A) 申请公布日期 2006.10.11
申请号 KR20060028972 申请日期 2006.03.30
申请人 KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA 发明人 YAMAUCHI TAKESHI
分类号 H01L21/205 主分类号 H01L21/205
代理机构 代理人
主权项
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