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发明名称 PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME
摘要
申请公布号 KR100621382(B1) 申请公布日期 2006.09.19
申请号 KR20040077134 申请日期 2004.09.24
申请人 发明人
分类号 G03F7/033;G03F7/004;G03F7/022;G03F7/027;G03F7/20;H01L21/027 主分类号 G03F7/033
代理机构 代理人
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