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发明名称
电子元件制造处理室及其形成方法
摘要
本发明之第一态样提供一种第一多件室。该第一多件室包括:(1)一件,具有一第一侧面和一第二侧面;(2)一第一侧件,适合与该件的第一侧面连接;以及(3)一第二侧件,适合与该件的第二侧面连接。当该件、该第一侧件和该第二侧件连接在一起时,构成实质上呈圆筒形的一室内区域。本发明还提供许多其他态样。
申请公布号
TW200618043
申请公布日期
2006.06.01
申请号
TW094118029
申请日期
2005.06.01
申请人
应用材料股份有限公司
发明人
栗田伸一;白隆尼根温德T BLONIGAN, WENDELL T.;稻川诚
分类号
H01L21/00
主分类号
H01L21/00
代理机构
代理人
蔡坤财
主权项
地址
美国
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