光存储介质及其制造方法

摘要

本发明提供一种光存储介质，此光存储介质包括：在一个面上具有第1信息坑的第1衬底；在第1衬底的具有第1信息坑的面上，反映第1信息坑的凹凸而形成的第1反射层；在第1反射层上形成的、在和第1反射层相对一侧的面上具有第2信息坑的第2衬底；在第2衬底的具有第2信息坑的面上，反映第2信息坑的凸凹而形成的第2反射层；在第2反射层上形成的覆盖层。作为所述第1反射层的凹凸之差的第1信息坑深度(d₁)和再生信号用的激光的波长λ以及所述第2衬底的折射率(n₁)满足λ/(5n₁)≤d₁≤λ/(3n₁)，而且，d₁≠λ/(4n₁)的关系式。作为所述第2反射层的凸凹之差的第2信息坑深度d₂和再生信号用的激光的波长λ以及所述覆盖层的折射率n₂满足λ/(5n₂)≤d₂≤λ/(3n₂)，而且，d₂≠λ/(4n₂)的关系式。

主权项

1、一种光存储介质，包括：衬底，其在一个面上具有信息坑；反射层，其在所述衬底的具有所述信息坑的面上，反映所述信息坑的凹凸而形成；覆盖层，其在所述反射层上形成，作为所述反射层的凹凸之差的信息坑深度d和信号再生用的激光的波长λ以及所述覆盖层的折射率n满足λ/(5n)≤d≤λ/(3n)，而且，d≠λ/(4n)的关系式。