发明名称 衬底处理装置和器件的制造方法
摘要 本发明提供一种衬底处理装置和器件的制造方法。该衬底处理装置能将远程等离子体和在整个处理室产生的等离子体的优点结合起来,实现良好的处理。该衬底处理装置具有:从外侧包围处理空间(1)地设置的、连接在地线上的导电性构件(10)和设置于上述导电性构件内侧的一对电极(4)。绝缘变压器(7)的初级线圈电连接在上述高频电源部(14)上,次级线圈电连接在上述电极(4)上。在连接次级线圈和电极(4)的连接线上连接有切换开关(13)。通过使用切换开关(13)切换连接线与地线的连接/非连接,能切换处理空间(1)中的等离子体产生区域。
申请公布号 CN1762044A 申请公布日期 2006.04.19
申请号 CN200480007523.3 申请日期 2004.03.04
申请人 株式会社日立国际电气 发明人 丰田一行;岛信人;石丸信雄;金野义和;竹林基成;野田孝晓;水野谦和
分类号 H01L21/31(2006.01);H01F27/00(2006.01) 主分类号 H01L21/31(2006.01)
代理机构 北京市金杜律师事务所 代理人 季向冈
主权项 1.一种衬底处理装置,具有:提供处理衬底的空间的处理空间;导电性构件,设置为从外侧包围上述处理空间,并连接在地线上;在上述导电性构件内侧设置的一对电极;高频电源部;绝缘变压器,具有初级线圈和次级线圈,上述初级线圈电连接在上述高频电源部上,上述次级线圈电连接在上述电极上;切换开关,连接在使上述绝缘变压器的上述次级线圈和上述一对电极分别进行电连接的连接线中的一条连接线上,切换上述一条连接线与上述地线的连接、非连接;以及控制部,控制上述切换开关的动作,对上述处理空间中的等离子体产生领域是不放置上述衬底的区域的状态、和是放置上述衬底的区域的状态进行切换。
地址 日本东京都
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