| 发明名称 | 在MENS装置中提供一再生保护涂层的系统和方法 | ||
| 摘要 | 在本发明的各种实施例中，一再生保护涂层形成于一MEMS装置80的一内部空腔的至少一表面上。特定实施例在一干涉式光调制装置的一个或一个以上镜面表面上提供一再生保护涂层170，在一些实施例中也被称为iMoD。可通过向所述保护涂层添加热量或能量来再生所述保护涂层。 | ||
| 申请公布号 | CN1755480A | 申请公布日期 | 2006.04.05 |
| 申请号 | CN200510103449.1 | 申请日期 | 2005.09.15 |
| 申请人 | IDC公司 | 发明人 | 杰弗里·B·桑普塞尔 |
| 分类号 | G02F1/21(2006.01);G02B26/00(2006.01);G09G3/34(2006.01) | 主分类号 | G02F1/21(2006.01) |
| 代理机构 | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 王允方 |
| 主权项 | 1.一种电子装置，其包含：一透明衬底；一安置于所述透明衬底上的干涉式调制器阵列，其中所述阵列包含一透射层和一反射层；一安置于至少一部分所述透射层与所述反射层之间的保护涂层；和一经配置以增加所述保护涂层的温度的加热器。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||