| 发明名称 | 显示装置的制造方法 | ||
| 摘要 | 在采用已有的光刻法的配线制作工序中，抗蚀剂、配线材料、以及等离子体处理时所需要的处理气体等大量浪费。另外，由于需要真空装置等抽气单元，整个装置大型化，因此伴随处理衬底大型化制作成本增加。因此，应用将抗蚀剂和配线材料做成液滴直接喷射在衬底上的必要部位以描绘图案的单元。还使用在大气压或者接近大气压的压力条件下进行灰化、蚀刻等汽相反应处理的单元。 | ||
| 申请公布号 | CN1745461A | 申请公布日期 | 2006.03.08 |
| 申请号 | CN200480003242.0 | 申请日期 | 2004.01.30 |
| 申请人 | 株式会社半导体能源研究所 | 发明人 | 山崎舜平 |
| 分类号 | H01L21/3065(2006.01) | 主分类号 | H01L21/3065(2006.01) |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 沈昭坤 |
| 主权项 | 1.一种显示装置的制造方法，其特征在于，从具有液滴喷射孔的喷头喷射感光性树脂，通过移动所述喷头或被处理基板，在所述被处理基板上形成的被覆膜上形成感光性树脂图案，在将所述感光性树脂图案作为掩模对所述被覆膜进行蚀刻之后，有选择地使所述感光性树脂图案灰化，使所述被覆膜形成图案。 | ||
| 地址 | 日本神奈川县 | ||