复合的阻隔膜和方法

摘要

在一种实施方案中，本发明涉及具有阻隔性能的复合膜，并且更特别地涉及复合膜，其含有基于氮化硅的涂层，涂层位于软质塑料基材上，其中基于氮化硅的涂层的厚度小于大约200nm，并且是在含有至少75％体积氮的气氛中，通过硅靶溅射被沉积在塑料基材上的。所述的复合阻隔膜具有至少约75％的可见光透射率。在另一种实施方案中，本发明涉及一种阻隔法，在塑料基材上沉积基于氮化硅的涂层，以便形成复合阻隔膜，其包括，在含有至少大约75％体积氮的气氛中，通过硅靶溅射，在基材上沉积基于氮化硅的涂层。

主权项

1.一种制备复合阻隔膜的方法，所述方法包括，在含有至少大约75％体积的氮的气氛中，通过硅靶的溅射，在塑料基材的至少一个表面上沉积基于氮化硅的涂层，所述涂层的厚度可以高达大约250纳米，所述塑料基材具有一个上表面和一个下表面；其中所述塑料基材的其上欲沉积基于氮化硅的涂层的所述表面所具有的RMS粗糙度为大约5纳米或者更小；并且，该复合物具有的可见光透射率为至少大约75％。