| 主权项 |
1.一种模室容积之调整构造,包含有: 一模具,具有一本体,一预定容积之模室设于该本 体内部,俾以之容纳对应体积之胚料; 一调整件,设于该模具上,并可于一第一及一第二 位置间位移作动,用以改变该模室所能容纳之胚料 体积,当该调整件位于该第一位置上时,系使该模 室所能容纳之胚料体积小于该调整件位于该第二 位置上时该模室所能容纳之胚料体积。 2.依据申请专利范围第1项所述模室容积之调整构 造,其中,该调整件位于该第一位置上时,系使该模 室所能容纳之胚料体积小于该预定容积。 3.依据申请专利范围第1项所述模室容积之调整构 造,其中,该调整件位于该第二位置上时,系使该模 室所能容纳之胚料体积大于该预定容积。 4.依据申请专利范围第3项所述模室容积之调整构 造,其中,该调整件系更包含有至少一容孔,系凹设 于该容室之一侧室壁上,一厚度小于该容孔孔深之 调整体系滑设于该容孔中,并可沿该容孔之孔轴于 各该第一、第二位置间位移,当位于该第二位置上 时,系使该调整体没入该容孔中并抵接于该容孔封 闭端之孔壁上,而今该容孔开口端与该模室相连通 。 5.依据申请专利范围第1项所述模室容积之调整构 造,其中,该调整件系具有至少一容孔,凹设于该模 室一侧室璧之预定位置上,至少一调整体系以周侧 面抵接于该容孔孔壁而滑设于该容孔中,并可沿该 容孔之孔轴于各该第一、第二位置间位移作动。 6.依据申请专利范围第4或5项所述模室容积之调整 构造,其中,该调整件系具有至少一螺孔,系自该容 孔之一侧孔壁同轴往外延伸至该本体之外侧端面 上,至少一螺杆,系螺设于该螺孔中,并以一端抵接 于该调整体上。 图式简单说明: 第一图系本创作一较佳实施例之立体分解图。 第二图系本创作一较佳实施例之立体组合图。 第三图系本创作一较佳实施例位于该第一位置上 之局部剖视图。 第四图系本创作一较佳实施例位于该第二位置上 之局部剖视图。 第五图系本创作一较佳实施例介于各该第一、第 二位置间一适当位置上之局部剖视图。 第六图系本创作一较佳实施例介于各该第一、第 二位置间另一适当位置上之局部剖视图。 |
