| 主权项 |
1.一种光学薄膜,其系含有聚芳基醚酮者;其特征在 于,系具有负双折射値。 2.如申请专利范围第1项之光学薄膜,其负双折射値 为0.001~0.6的范围。 3.如申请专利范围第1或2项之光学薄膜,其中,聚芳 基醚酮为在主链的重复构造单位中具有至少1个氟 原子之氟化聚芳基醚酮。 4.如申请专利范围第1或2项之光学薄膜,其中,聚芳 基醚酮为具有通式(1)的重复构造单位; (式中,F为氟原子,A为卤素原子、低级烷基或低级 烷氧基,x及y为0~4的整数,m为0或1;又,n表示聚合度,R1 表示以通式(2)所代表的基); (式中,F为氟原子,A'为卤素原子、低级烷基或低级 烷氧基,z及x'为0~4的整数,p为0或1,R2为2价的芳香族 基)。 5.如申请专利范围第1或2项之光学薄膜,其中,聚芳 基醚酮为具有通式(3)的重复构造单位者; (式中,F为卤素原子,x为0~4的整数,m为0或1;又,n表示 聚合度,R1为以通式(2)所代表的基); (式中,F为氟原子,A'为卤素原子、低级烷基或低级 烷氧基,z及x'为0~4的整数,p为0或1,R2为2价的芳香族 基)。 6.如申请专利范围第4项之光学薄膜,其中,于通式(1 )或通式(3)中,R1为以通式(4)所代表的基; (式中,F为氟原子,z为0~4的整数,p为0或1;R2为2价的芳 香族基)。 7.如申请专利范围第5项之光学薄膜,其中,于通式(1 )或通式(3)中,R1为以通式(4)所代表的基; (式中,F为氟原子,z为0~4的整数,p为0或1;R2为2价的芳 香族基)。 8.如申请专利范围第4项之光学薄膜,其中,于通式(2 )及(4)中,2价的芳香族基(R2),为选自由通式(5)所构 成群中之至少1种基; (式中,B为卤素原子、氢原子、碳数1~4的低级烷基 或碳数1~4的低级烷氧基)。 9.如申请专利范围第5项之光学薄膜,其中,于通式(2 )及(4)中,2价的芳香族基(R2),为选自由通式(5)所构 成的群中之至少1种的基; (式中,B为卤素原子、氢原子、碳数1~4的低级烷基 或碳数1~4的低级烷氧基)。 10.如申请专利范围第6项之光学薄膜,其中,于通式( 2)及(4)中,2价的芳香族基(R2),为选自由通式(5)所构 成的群中之至少1种的基; (式中,B为卤素原子、氢原子、碳数1~4的低级烷基 或碳数1~4的低级烷氧基)。 11.如申请专利范围第7项之光学薄膜,其中,于通式( 2)及(4)中,2价的芳香族基(R2),为选自由通式(5)所构 成的群中之至少1种的基; (式中,B为卤素原子、氢原子、碳数1~4的低级烷基 或碳数1~4的低级烷氧基)。 12.如申请专利范围第1或2项之光学薄膜,其中,聚芳 基醚酮为具有通式(6)的重复构造单位者。 13.如申请专利范围第1或2项之光学薄膜,其中,聚芳 基醚酮为具有通式(7)的重复构造单位者。 14.如申请专利范围第1或2项之光学薄膜,其中,聚芳 基醚酮为具有通式(8)的重复构造单位者。 15.如申请专利范围第1或2项之光学薄膜,其中,聚芳 基醚酮为具有通式(9)的重复构造单位者。 16.一种光学薄膜之制造方法,其系用以制造申请专 利范围第1~15项中之任一项的光学薄膜者;其特征 在于,系含有:将含有聚芳基醚酮之溶液涂布于基 板上之制程,与使形成之涂膜乾燥之制程。 17.一种视角补偿构件,其特征在于,系含有申请专 利范围第1~15项中之任一项之光学薄膜。 18.一种光学元件,其特征在于,系含有申请专利范 围第1~15项中之任一项之光学薄膜。 19.如申请专利范围第18项之光学元件,其进一步含 有其他的光学薄膜;而在该其他的光学薄膜的至少 一表面上积层申请专利范围第1~15项中之任一项的 光学薄膜而成。 20.一种影像显示装置,其特征在于,系具备有:申请 专利范围第1~15项中之任一项的光学薄膜、申请专 利范围第17项之视角补偿构件或申请专利范围第18 项或19项之光学元件。 |
