| 发明名称 | 基板处理装置及基板处理方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种基板处理装置及基板处理方法，该基板处理装置在机体的基板搬运出入口的相反侧的侧面上设置有透射窗。电离器设置在清洗处理部的透射窗侧的外部。透射窗由聚亚胺类树脂或者丙烯类树脂等构成。从电离器照射的微弱X射线通过透射窗，到达清洗处理部的基板搬运出入口、闸门、旋转紧固件、保护件等。旋转紧固件具有多个导电性固定销。 | ||
| 申请公布号 | CN1707751A | 申请公布日期 | 2005.12.14 |
| 申请号 | CN200410056045.7 | 申请日期 | 2004.08.05 |
| 申请人 | 大日本网目版制造株式会社 | 发明人 | 麻籍文 |
| 分类号 | H01L21/02;H01L21/00 | 主分类号 | H01L21/02 |
| 代理机构 | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人 | 经志强;潘培坤 |
| 主权项 | 1.一种基板处理装置，具有：固定基板的基板固定装置；产生X射线并向包含前述基板固定装置的环境的至少一部分照射的X射线的X射线照射装置；配置在前述基板固定装置和前述X射线照射装置之间的隔板，前述隔板至少在一部分中具有透射由前述X射线照射装置产生的X射线的X射线透射部。 | ||
| 地址 | 日本京都府 | ||