发明名称 萤光体薄膜、其制造方法及EL面板PHOSPHOR THIN FILM, MANUFACTURING METHOD OF THE SAME AND ELECTROLUMINECENCE PANEL
摘要 本发明之目的在于提供一种应答性优、色纯度良好、且可实现高辉度发光之可实现发光元件的萤光体薄膜、及具备其之EL面板。本发明之具备萤光体薄膜的EL面板的构成系于基板上具备一依序积层:下部电极、绝缘层、EL萤光体积层薄膜及上部电极。EL萤光体积层薄膜系本质上以镓酸镁所构成之母体材料中掺杂稀土族元素而构成之萤光体薄膜两侧形成缓冲薄膜、进一步于其两侧形成电子注入薄膜。
申请公布号 TWI242037 申请公布日期 2005.10.21
申请号 TW092106790 申请日期 2003.03.26
申请人 卫斯坦公司 发明人 矢野义彦;大池智之;高桥圣树;长野克人
分类号 C09K11/00;C23C14/22 主分类号 C09K11/00
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 1.一种萤光体薄膜,其构成系包含: 母体材料,其系包括:含有Mg及Ga之氧化物; 发光中心,其系包含稀土族元素、Pb、Bi及Cr之中至 少一种的元素。 2.根据申请专利范围第1项之萤光体薄膜,其中前述 母体材料为镓酸镁。 3.根据申请专利范围第1项之萤光体薄膜,其中前述 发光中心为稀土族元素。 4.根据申请专利范围第1项之萤光层薄膜,其中前述 母体材料为含有元素A及元素B之氧化物, 前述元素A:系Mg、Ca、Sr、Ba及Zn之中至少一种的元 素且必含Mg; 前述元素B:系Ga、Al、B及In之中至少一种的元素且 必含Ga; 且,满足以下述式(1) 0.05≦MB/MA≦20 …(1) MA:系前述母体材料中之前述元素A之原子数, MB:系前述母体材料中之前述元素B之原子数,所示 之关系。 5.根据申请专利范围第1项之萤光层薄膜,其中满足 以下述式(2) 0.8≦MB/MA≦1.9 …(2) MA:系前述母体材料中之前述元素A之原子数, MB:系前述母体材料中之前述元素B之原子数,所示 之关系。 6.一种萤光体薄膜的制造方法,其系藉由利用含有 发光中心(其系含有:包含Mg之氧化物、以及稀土族 元素、Pb、Bi及Cr之中至少一种元素者)之蒸发源、 与含有氧化物(其系含有Ga)之蒸发源的二元蒸镀法 ,形成一包括:含有氧化物(其系含有Mg及Ga)之母体 材料、与该发光中心而构成的萤光体薄膜。 7.一种EL面板,系包含母体材料与发光中心而构成 之萤光体薄膜,而前述该母体材料系含有一包括Mg 及Ga之氧化物;前述发光中心系包含稀土族元素、 Pb、Bi及Cr之中至少一种元素。 图式简单说明: 图1系表示本发明之EL面板的第4实施形态之重要部 份的断面图。 图2系表示本发明之EL面板的第3实施形态之重要部 份的断面图。 图3系表示本发明之EL面板的第2实施形态之重要部 份的断面图。 图4系表示本发明之EL面板的第1实施形态之重要部 份的断面图。 图5系模型式表示以往之EL显示器的一例之立体图 。 图6系表示实施例1所得到之EL元件的发光光谱图。 图7系表示实施例1及比较例1所得到之EL元件的L-V 特性图。 图8系表示实施例3所得到之EL元件的萤光体薄膜中 之Ga/Mg与辉度之关系图。 图9系表示实施例3所得到之EL元件的萤光体薄膜中 之Eu添加量与辉度之关系图。
地址 加拿大