发明名称 经氧化钛溶胶涂布之物品及氧化钛粒子
摘要 一种氧化钛溶胶系含有氯离子和氯离子以外之其他的布朗斯台德硷,且以选自硝酸离子和磷酸离子中之至少一者的布朗斯台德硷为宜。该溶胶中的氧化钛宜以板钛矿型氧化钛为主。该溶胶系藉由在至少一种布朗斯台德硷的存在下将四氯化钛予以水解而制造。由该氧化钛所形成之氧化钛薄膜在光催化作用、透明性,以及与基材之密合性等方面均极优良。
申请公布号 TWI241278 申请公布日期 2005.10.11
申请号 TW093132721 申请日期 1999.05.14
申请人 昭和电工股份有限公司 发明人 大森将弘;中村英则
分类号 C01G23/053 主分类号 C01G23/053
代理机构 代理人 恽轶群 台北市松山区南京东路3段248号7楼;陈文郎 台北市松山区南京东路3段248号7楼
主权项 1.一种基材表面上经氧化钛溶胶涂布之物品,其中该氧化钛溶胶含有氯离子和氯离子以外之其他的布朗斯台德硷,且前述布朗斯台德硷系选自硝酸离子、磷酸离子、焦磷酸离子、偏磷酸离子、多磷酸离子、醋酸离子以及有机酸离子中之至少一种以上,又,氧化钛所具有的平均粒径为0.01~0.1m。2.如申请专利范围第1项之物品,其中之基材系选自陶瓷、金属、玻璃、塑胶、纸以及木材中之至少一种。3.一种氧化钛粒子,系将氧化钛溶胶予以乾燥制造出者,该氧化钛溶胶含有氯离子和氯离子以外之其他的布朗斯台德硷,且前述布朗斯台德硷系选自硝酸离子、磷酸离子、焦磷酸离子、偏磷酸离子、多磷酸离子、醋酸离子以及有机酸离子中之至少一种以上,又,氧化钛所具有的平均粒径为0.01~0.1m。图式简单说明:第1图系在本发明之氧化钛溶胶的制造中所使用的合适之反应装置的一例之概略断面图。
地址 日本