| 发明名称 |
Stickstofffreie antireflektierende Beschichtung und Verfahren zur Herstellung derselben |
| 摘要 |
Die vorliegende Erfindung stellt eine stickstofffreie ARC-Schicht bereit, die auf Grundlage von Silan und Kohlendioxid mittels PECVD in einer stickstofffreien Abscheideatmosphäre hergestellt wird. Die optischen Eigenschaften können in einem weiten Bereich eingestellt werden, wobei insbesondere eine Rückreflektion in den Lack bei 3% oder weniger gehalten wird. Die ARC-Schicht ist für die 193 nm-Lithographie gut geeignet.
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| 申请公布号 |
DE102004012798(A1) |
申请公布日期 |
2005.10.06 |
| 申请号 |
DE20041012798 |
申请日期 |
2004.03.16 |
| 申请人 |
ADVANCED MICRO DEVICES, INC. |
发明人 |
RUELKE, HARTMUT;HUY, KATJA;MUEHLE, SVEN |
| 分类号 |
G01R31/26;G03F7/09;H01L21/027;H01L21/30;H01L21/311;H01L21/316;H01L21/4763;H01L21/66;H01L21/768;(IPC1-7):H01L21/768 |
主分类号 |
G01R31/26 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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