发明名称 金属箔层叠体及其制法和使用它的安装回路基板的制法
摘要 本发明提供了一种单面金属箔层叠体的制造方法,所述方法包括将由可以形成光学各向异性的熔融相的聚合物层、其上表面的金属箔层和下表面的金属箔层构成的两面金属箔层叠体,沿前述聚合物层的厚度方向,撕开为上面的层叠体和下面的层叠体,从而分割成由可以形成光学各向异性的熔融相的聚合物层,和它上表面的金属箔层构成的第一单面金属箔层叠体;和由可以形成光学各向异性的熔融相的聚合物层,及其下表面的金属箔层构成的第二单面金属箔层叠体,使用该方法还可以制造两面金属箔层叠体和使用该层叠体的安装回路基板。
申请公布号 CN1219637C 申请公布日期 2005.09.21
申请号 CN02143576.6 申请日期 1999.03.31
申请人 可乐丽股份有限公司 发明人 田中善喜;津高健一;小野寺稔;佐藤敏昭
分类号 B32B15/08;B32B31/12;H05K1/05;G02F1/13 主分类号 B32B15/08
代理机构 北京三幸商标专利事务所 代理人 刘激扬
主权项 1.一种单面金属箔层叠体的制造方法,其特征为,将由可以形成光学各向异性的熔融相的聚合物层、其上表面的金属箔层和下表面的金属箔层构成的两面金属箔层叠体,沿前述聚合物层的厚度方向,撕开为上面的层叠体和下面的层叠体,从而分割成由可以形成光学各向异性的熔融相的聚合物层,和它上表面的金属箔层构成的第一单面金属箔层叠体;和由可以形成光学各向异性的熔融相的聚合物层,及其下表面的金属箔层构成的第二单面金属箔层叠体。
地址 日本国冈山县