| 发明名称 |
METHOD FOR FABRICATING DUAL DAMASCENE PATTERN |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR20050069586(A) |
申请公布日期 |
2005.07.05 |
| 申请号 |
KR20030101799 |
申请日期 |
2003.12.31 |
| 申请人 |
DONGBUANAM SEMICONDUCTOR INC. |
发明人 |
KEUM, DONG YEAL |
| 分类号 |
H01L23/522;H01L21/28;H01L21/44;H01L21/4763;H01L21/768;(IPC1-7):H01L21/28 |
主分类号 |
H01L23/522 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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