发明名称 形成N型金氧半电晶体之方法及其结构METHOD OF FORMING AN NMOS TRANSISTOR AND STRUCTURE THEREOF
摘要 在一实施例中,金属硼化物(MBx)、金属碳化物(MCx)、金属碳氮化物(MCxNy)、金属硼碳化物(MBxCy)、金属硼氮化物(MBxNy)或金属硼碳氮化物(MBxCyNz),其中该金属为一过渡金属(周期表之III–XII族),其皆适合作为NMOS闸极(88)之材料。此材料,例如,TaC及LaB6,其可形成以具有在大约4–4.3 eV内之功函数,此为NMOS电晶体所需者。此外,碳或氮量可以藉由调整先驱物内之碳或氮量,以取得一预定之金属功函数。
申请公布号 TW200518335 申请公布日期 2005.06.01
申请号 TW093131219 申请日期 2004.10.14
申请人 飞思卡尔半导体公司 发明人 史赖根斯B 沙麦维;詹姆士K 史超佛;菲力浦J 托宾;毕克斯 麦提;乔瑟夫C 莫盖博
分类号 H01L29/66 主分类号 H01L29/66
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 美国