发明名称 |
形成N型金氧半电晶体之方法及其结构METHOD OF FORMING AN NMOS TRANSISTOR AND STRUCTURE THEREOF |
摘要 |
在一实施例中,金属硼化物(MBx)、金属碳化物(MCx)、金属碳氮化物(MCxNy)、金属硼碳化物(MBxCy)、金属硼氮化物(MBxNy)或金属硼碳氮化物(MBxCyNz),其中该金属为一过渡金属(周期表之III–XII族),其皆适合作为NMOS闸极(88)之材料。此材料,例如,TaC及LaB6,其可形成以具有在大约4–4.3 eV内之功函数,此为NMOS电晶体所需者。此外,碳或氮量可以藉由调整先驱物内之碳或氮量,以取得一预定之金属功函数。 |
申请公布号 |
TW200518335 |
申请公布日期 |
2005.06.01 |
申请号 |
TW093131219 |
申请日期 |
2004.10.14 |
申请人 |
飞思卡尔半导体公司 |
发明人 |
史赖根斯B 沙麦维;詹姆士K 史超佛;菲力浦J 托宾;毕克斯 麦提;乔瑟夫C 莫盖博 |
分类号 |
H01L29/66 |
主分类号 |
H01L29/66 |
代理机构 |
|
代理人 |
陈长文 |
主权项 |
|
地址 |
美国 |