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发明名称 Isolation layer in a semiconductor device and a method of forming the same
摘要
申请公布号 KR100486875(B1) 申请公布日期 2005.05.03
申请号 KR20020085456 申请日期 2002.12.27
申请人 发明人
分类号 H01L21/76;(IPC1-7):H01L21/76 主分类号 H01L21/76
代理机构 代理人
主权项
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