光刻装置

摘要

一种具有掩模装置的光刻投影装置，所述掩模装置用于遮盖至少一个构图装置的部分，所述构图装置用于在投影光束将带图案光束成像在基底上之前对投影光束进行构图。所述掩模装置包括在第一方向遮盖所述构图装置的部分的第一掩模装置，以及在第二不同方向遮盖所述部分的第二掩模装置，其中所述第一和第二掩模装置以机械上彼此分开布置的方式设置在所述焦平面附近。

主权项

1.一种光刻投影装置，包括：-用于提供辐射投影光束的照明系统，其中所述照明系统限定了一个焦平面，在使用中通过所述投影光束通过该焦平面；-用于在一定位置支撑构图装置的支撑结构，所述构图装置用于根据所需的图案对投影光束进行构图；-用于遮盖所述构图装置的至少一部分以挡住所述投影光束的遮蔽装置，所述掩模装置包括设置成在相对于所述位置的第一方向遮盖所述部分的第一掩模装置，以及在相对于所述位置的第二不同方向遮盖所述位置的部分的第二掩模装置；-用于保持基底的基底台；-用于将带图案的光束成像到基底的目标部分上的投影系统，其特征在于所述第一和第二掩模装置以机械上彼此分开布置的方式设置在所述焦平面附近。