| 发明名称 | 光掩模、使用该光掩模的图案形成方法及该光掩模的掩模数据编制方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及光掩模、使用该光掩模的图案形成方法及该光掩模的掩模数据编制方法。在透过性基板(100)上，设置：对曝光光具有遮光性的半遮光部(101)，被半遮光部(101)包围、且对曝光光具有透光性的透光部(102)，位于透光部(102)的周边的辅助图案(移相器)(103)。半遮光部(101)和透光部(102)，以互相相同的相位使曝光光透过。辅助图案——移相器(103)，以半遮光部(101)和透光部(102)为基准，以互相相反的相位使曝光光透过，并且不被曝光光复制。从而能够将孤立空白图案和孤立线图案或密集图案同时细微化。 | ||
| 申请公布号 | CN1574223A | 申请公布日期 | 2005.02.02 |
| 申请号 | CN200410059867.0 | 申请日期 | 2004.06.24 |
| 申请人 | 松下电器产业株式会社 | 发明人 | 三坂章夫 |
| 分类号 | H01L21/027;G03F7/20;G03F7/00 | 主分类号 | H01L21/027 |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 汪惠民 |
| 主权项 | 1、一种光掩模，其特征在于，在透过性基板上具有：对曝光光有遮光性的半遮光部；被所述半遮光部包围、而且对所述曝光光有透光性的透光部；以及被所述半遮光部包围、且位于所述透光部周边的辅助图案，所述半遮光部及所述透光部以彼此相同的相位使所述曝光光透过，所述辅助图案，以所述半遮光部及所述透光部为基准，用相反的相位使所述曝光光透过，且不被所述曝光光复制。 | ||
| 地址 | 日本大阪府 | ||