<p>Die Erfindung betrifft eine photokatalytisch aktive Beschichtung eines Substrats, aufgebaut aus einer Schutzschicht und hierauf aufgebrachten photokatalytisch aktiven Partikeln, wobei die Schutzschicht keine photokatalytische Aktivität aufweist. Die Schutzschicht enthält bevorzugt Zr02 und Si02.</p>
申请公布号
WO2005007286(A1)
申请公布日期
2005.01.27
申请号
WO2004EP51514
申请日期
2004.07.15
申请人
PROFINE GMBH;FRINGS, WOLFGANG;SEPEUR, STEFAN;GROSS, FRANK;KRECHAN, REIMUND;WEYER, CHRISTOPH
发明人
FRINGS, WOLFGANG;SEPEUR, STEFAN;GROSS, FRANK;KRECHAN, REIMUND;WEYER, CHRISTOPH
