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"PLACAS DE IMPRESSãO SENSìVEIS à RADIAçãO INFRAVERMELHO NA PRENSA". A presente invenção está relacionada com composições sensíveis à radiação infra-vermelho adequadas para a fabricação de placas de impressão desenvolvíveis na prensa. As composições sensíveis à radiação infra-vermelho compreendem: (a) um primeiro ligante polimérico que não compreende grupos ácidos possuindo um valor de pKa menor ou igual a 8; (b) um segundo ligante polimérico compreendendo grupos poliéter; (c) um sistema iniciador compreendendo (i) no mínimo um composto capaz de absorver radiação infra-vermelho selecionado de corantes triarilamina, corantes tiazólio, corantes indólio, corantes oxazólio, corantes cianina, corentes polianifna, corantes polipirrol, corantes politiofeno e pigmentos ftalocianina; (ii) no mínimo um composto capaz de produzir radicais selecionados de compostos polialoaquil substituídos; e (iii) no mínimo um ácido policarboxílico representado pela seguinte fórmula IR4 - (CR5R6)r - Y CH2COOH (I) onde Y é selecionado do grupo que consiste de 0, S e NR7, cada R4, R5 e R6 sendo independentemente selecionado do grupo que consiste de hidrogênio, alquil C1 - C4, arila substituída ou não substituída, - COOH e NR8CH2COOH, R7 é selecionado do grupo que consiste de hidrogênio, alquil C1 C6, - CH2CH2OH, e alquil C1 - C5 substituída com COOH, R8 é selecionado do grupo que consiste de - CH2COOH, CH20H e - (CH2) ~ 2~N (CH2COOH) 2 e r é 0, 1, 2 ou 3, com a condição de que no mínimo um de R4, RS, R6, R7 e R8 compreende um grupo - COOH ou seus sais, e (d) um sistema polimerizável de radical livre compreendendo no mínimo um membro selecionado de monómeros polimerizáveis de radical livre insaturado, oligómeros que são polimerizáveis de radical livre e polímeros contendo ligações C = C na cadeia principal e/ou nos grupos da cadeia lateral, onde a seguinte desigualdade é met:oxi < redii + 1.6 eV com oxi = potencial de oxidação do componente (i) em eVredii = potencial de redução do componente (ii) em eV. |
