发明名称 Verfahren zur Fertigung eines Halbleiterwafers
摘要 Um bei der Fertigung eines Halbleiterwafers, auf dem mittels Drahtbonden Bondhügel auszubilden sind, auf Bondinseln mühelos Bondhügel mit einheitlicher Kopfhöhe der Bondhügel auszubilden, weist ein Fertigungsverfahren für Halbleiterwafer die folgende Schritte auf: Ausbilden von Bondhügeln mittels Drahtbonden auf Bondinseln, die auf einer Halbleiterwaferoberfläche ausgebildet sind, Ausbilden einer Harzschicht, indem ein Harz so auf die Oberfläche aufgebracht wird, daß die Bondhügel überdeckt werden, und Oberflächenbearbeitung der Bondhügel durch Schleifen der Harzschicht und Bearbeiten der Bondhügelköpfe auf einheitliche Höhe.
申请公布号 DE102004017182(A1) 申请公布日期 2004.11.18
申请号 DE20041017182 申请日期 2004.04.07
申请人 DISCO CORP., TOKIO/TOKYO 发明人 SEKIYA, KAZUMA;ARAI, KAZUHISA
分类号 H01L23/12;H01L21/56;H01L21/60;H01L23/485 主分类号 H01L23/12
代理机构 代理人
主权项
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