发明名称 | 于高密度电浆半导体处理中使用之受冷却之沈积挡板 | ||
摘要 | 一种使用于高密度电浆设备之改良之沈积挡板,用于将介电质窗口与导电沈积物隔离。该挡板具有一中心圆形部,于内设有被导电桥中断之复数凹槽。位于主体内凹槽间之肋部设有挖掘于其内之冷却流区段,其系藉由该挡板之圆周边界环形部内之互连通道部串联连接以在该挡板之环形部圆周边界部分内形成从一入口至一出口之连续弯曲冷却流路径。 | ||
申请公布号 | TW200416293 | 申请公布日期 | 2004.09.01 |
申请号 | TW092137670 | 申请日期 | 2003.12.31 |
申请人 | 东京威力科创股份有限公司 | 发明人 | 约瑟夫 柏卡;马克 克雷夏科;提姆 普文其 |
分类号 | C23C14/34 | 主分类号 | C23C14/34 |
代理机构 | 代理人 | 周良谋;周良吉 | |
主权项 | |||
地址 | 日本 |