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发明名称
具有保护薄膜之光罩及其制造方法
摘要
一种具有保护薄膜之光罩制作方法,包括以下步骤。首先,提供一基底,该基底具有一透光层,在该透光层上具有一遮光层,在该遮光层上更具有一光阻层。接着,在该光阻层及遮光层中形成一曝露该透光层之凹槽。然后,移除该光阻层。再者,污染该曝露之透光层而在凹槽下方之该透光层中形成一不透光区。最后,移除该遮光层。
申请公布号
TW200412471
申请公布日期
2004.07.16
申请号
TW092135184
申请日期
2003.12.12
申请人
台湾积体电路制造股份有限公司
发明人
资三德;严涛南;张仲兴;谢祯皓
分类号
G03F1/08;H01L21/027
主分类号
G03F1/08
代理机构
代理人
洪澄文;颜锦顺
主权项
地址
新竹市新竹科学工业园区力行六路八号
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