摘要 |
Die vorliegende Erfindung betrifft ein fotostrukturierbares innensensitives Lithiumalumosilikatglas. Das erfindungsgemässe Glas bietet den besonderen Vorteil, dass aufgrund der neuartigen Glaszusammensetzung die Fotostrukturierbarkeit, die Innensensitivität und die Innenselektivität in für eine technische Anwendung ausreichender Qualität realisierbar sind. Das Glas besteht hauptsächlich aus Siliziumdioxid (SiO2) und Lithiumoxid (Li2O). Weiterhin enthält das Grundglas in geringeren Bestandteilen Aluminiumoxid (A12O3) sowie Natriumoxid (Na2O) und/oder Kaliumoxid (K2O). Schliesslich umfasst das Glas noch geringe Anteile von Cerium (IV) -oxid (CeO2), Silber (I) -oxid (Ag2O), Antimontrioxid (Sb2O3) und Zinnmonoxid (SnO). Das neuartige Glas ist für den Einsatz in der Mikrofluidiktechnik, z.B. als Innensensor und dabei insbesondere als innensensitive Membran vorgesehen.
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申请人 |
TECHNISCHE UNIVERSITAET ILMENAU;HUELSENBERG, DAGMAR;HARNISCH, ALF;HECHT-MIJIC, STEPHAN;STIEBERT, DIETMAR;KADEN, HEINER;HERRMANN, SIGRUN;MICHELSEN, CARL-ERNST |
发明人 |
HUELSENBERG, DAGMAR;HARNISCH, ALF;HECHT-MIJIC, STEPHAN;STIEBERT, DIETMAR;KADEN, HEINER;HERRMANN, SIGRUN;MICHELSEN, CARL-ERNST |