发明名称 聚合物和抗蚀材料
摘要 一种在其分子中含有在酸存在下可容易地除去的缩醛基或缩酮基的聚羟基苯乙烯衍生物的聚合物,它有很窄的分子量分布并使含有它的抗蚀材料适合用于形成有极好分辨率、耐热性、掩膜线性度和其它性能如不会引起延迟期间等问题的超细图案。
申请公布号 CN1145078C 申请公布日期 2004.04.07
申请号 CN96123157.2 申请日期 1996.12.20
申请人 和光纯药工业株式会社 发明人 浦野文良;藤江启利;大野桂二
分类号 G03F7/039;C08F212/14 主分类号 G03F7/039
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 李勇
主权项 1.一种具有下式所示重复单元的聚合物,<img file="C9612315700021.GIF" wi="1307" he="534" />式中:R<sup>1</sup>和R<sup>2</sup>各自为氢原子或有1-4个碳原子的低级烷基;R<sup>3</sup>和R<sup>4</sup>各自为氢原子或可被1或多个卤原子取代的有1-10个碳原子的烷基,或者R<sup>3</sup>和R<sup>4</sup>与它们之间的碳原子一起形成烷烃环,限制条件是R<sup>3</sup>和R<sup>4</sup>不能同时为氢原子;R<sup>5</sup>为可被1或多个卤原子取代的有1-10个碳原子的烷基,或选自苯甲基、苯乙基、苯丙基、甲基苯甲基、甲基苯乙基和乙基苯甲基的芳烷基;R<sup>6</sup>为可带有1或多个取代基的苯基、可被有1-6个碳原子的烷基取代的羧基,或氰基;m和n各自为1或大于1的整数;k为0或1或大于1的整数,限制条件是0.1≤(m+k)/(m+n+k)≤0.9且0≤k/(m+n+k)≤0.25,所述聚合物的分散度不小于1但小于1.5。
地址 日本大阪府