增强化学性之正型抗蚀材料

摘要

本发明系有关一种对远紫外线、电子线、X线等高能量射线具有高灵敏度之，能以硷性水溶液显像而形成图样之适用于微细加工技术的增强化学性之正型抗蚀材料。其系含有，(A)有机溶剂、(B)作为基材树脂之具有以下列一般式(1)重覆单位所示，重量平均分子量为2,000~50,000之高分子化合物，(C)产酸剂，(D)作为溶解控制剂的重量平均分子量1,000以上3,000以下之分子内具有苯酚性羟基之化合物，且对此苯酚性羟基之氢原子而言平均0%~60%受酸不安定基所取代，之增强化学性之正型抗蚀材料。〔其中，R为下列一般式(2)所亦之基，(式中的R1、R2为各别独立之氢原子或碳数1~6的直链或支链之烷基，R3为碳数1~10的直链状、支链或环状之烷基，又，R2及R3可结合成环状)，Q为酸不安定基，x、y、z为0.05≦x/(x+y+z)≦0.8、0≦y/(x+y+z≦0.5、0.2≦z/(x+y+z)≦0.95之数，n为1~3之整数。〕

主权项

1.一种增强化学性之正型抗蚀材料,其特征系含有,(A)对基料树脂为200~1000%之有机溶剂、(B)作为基料树脂之其有以下列一般式(1)所示重覆单位,重量平均分子量为2,000 ~50,000的高分子化合物[其中,R为下列一般式(2)所示之基,(式中的R1.R2为各别独立之氢原子或碳数1~6的直链烷基,R3为碳数1~10的直链或环状之烷基,又,R2及R3可结合成环状)Q为由下记式所示取代基中所选出之酸不安定基,x,y,z为0.1≦x/(x+y+z)≦0.5.0≦y/(x+y+z)≦0.3.0.2≦z/(x+y+z)≦0.9之数,n为1~3之整数],(C)对全固体成份为0.5~15%之产酸剂、(D)对全固体成份为0.5~24%之分子内具有2个以上乙烯醚基之化合物:。2.一种增强化学性之正型抗蚀材料,其特征系含有,(A)对基料树脂为200~100%之有机溶剂、(B)作为基料树脂之如申请范围第1项的高分子化合物、(C)对全固体成份为0.5~15%产酸剂、(D)对全固体成份0.5~24%之分子内内具有2个以上乙烯醚基之化合物、(E)对基料树脂为20~100%之作为溶解控制剂的分子量100~1,000之分子内具有2个以上苯酚性羟基之化合物,且对此苯酚性羟基之氢原子而言平均10~100%为受下记式所示取代基中所选出之酸不安定基所取代3.一种增强化学性之正型抗蚀材料,其特征系含有,(A)对基料树脂为200~1000%有机溶剂、(B)作为基料树脂之如申请专利范围第1项的高分子化合物、(C)对全固体成份为0.5 ~15%之产酸剂、(D)对全固体成份为0.5~24%之分子内内具有2个以上乙烯醚基之化合物、(E)作为溶解控制剂的分子量100~1,000之分子内其有2个以上苯酚性羟基之化合物,且对此苯酚性羟基之氢原子而言平均0~50%为受下记式所示取代基中所选出之酸不安定基所取代、(F)作为其他之溶解控制剂的重量平均分子量为1,000~3,000之分子内具有苯酚性羟基之化合物,且对此苯酚性羟基之氢原子而言平均0%以上50%以下为受下记式所示取代基中所选出之酸不定基所取代,又,(E)及(F)之溶解控制剂之合计添加量对基料树脂为20~100%;4.如申请专利范围第1至3项中之任何一项之抗蚀材料,其中,配合使用(G)添加剂之硷性化合物。5.如申请专利范围第1至3项中之任何一项之抗蚀材料,其中,(C)成分之产酸剂为盐。6.如申请专利范围第4项之抗蚀材料,其中,(C)成分之产酸剂为盐。