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Die Erfindung betrifft eine Anordnung zur Überwachung der Energieabstrahlung einer EUV-Strahlungsquelle bezüglich der in einem Beleuchtungsstrahlengang wirksamen Energieschwankungen, insbesondere für die Steuerung der Dosisstabilität in der EUV-Lithographie zur Chipherstellung in der Halbleitertechnologie. DOLLAR A Die Aufgabe, eine neue Möglichkeit zur Detektion von Schwankungen der emittierten Strahlung von EUV-Quellen zu finden, die sowohl die Erfassung von Fluktuationen der Impulsenergie als auch von im Beleuchtungsstrahlengang wirksamen räumlichen Fluktuationen gestattet, wird erfindungsgemäß bei einer Strahlungsquelle, die eine extrem ultraviolette Strahlung emittierende Plasmasäule aufweist, dadurch gelöst, dass bezüglich der Plasmasäule ein vom Beleuchtungsstrahlengang separierter Detektionsstrahlengang mit einer Energiemonitoreinheit zur Impulsenergiemessung vorhanden ist, so dass der Beleuchtungsstrahlengang durch die Energiemessung nicht beeinträchtigt ist, und der Detektionsstrahlengang bezüglich Bündelausdehnung und optischen Verlusten an den Beleuchtungsstrahlengang angeglichen ist.
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