用于低蒸气压母体的气体供给装置

摘要

本发明涉及一种气体供给装置，它用于将低蒸气压母体导入CVD－涂层设备。气体供给装置具有一个使母体保持在第一温度T1的供料容器，一个用于中间储存温度为T2、恒压为p2的气状母体的中间储器，一个位于供料容器和中间储器之间的第一气体管路以及将气体从中间储器排出的第二气体管路。按照发明，气体供给装置的构成要使第一温度T1高于第二温度T2。当供料容器内在较高温度T1下母体以高速汽化时，由于中间储器的较低温度T2，使得中间储器的维护工作减轻。在一种特别有利的方案中，中间储器内的第一母体蒸气与一种气体及/或第二母体蒸气相混合，在所述中间储器内第一母体蒸气的分压以恒总压下小于中间储器内未稀释的第一母体蒸气的分压，以致中间储器和邻接的管路的温度T2可降低，降低T2温度可使使用价格更经济。

主权项

1.一种用于低蒸气压母体，特别是用于CVD-涂层设备的气体供给装置，它具有一个用于低蒸气压的第一母体的供料容器(2)，其中有母体的供料容器(2)保持第一温度T1，一个中间储器(4)用于中间存储气状第一母体，其中，中间储器(4)在此保持第二温度T2及低于供料容器(2)内压力p1的恒压p2，一个位于供料容器(2)和中间储器(4)之间的第一气体管路(3)，一个连接中间储器(4)并从中间储器(4)中提取气体的第二气体管路(10)，其特征在于：第一温度T1高于第二温度T2。