发明名称 抗反射膜,光学元件和视觉显示器
摘要 本发明涉及一种抗反射膜,其具有直接在透明基质的一面或通过其它层制备的硬涂层,并进一步将抗反射层层压在硬涂层的表面上,其中的抗反射层由从下列溶液获得的干燥固化膜制成,该溶液含:硅氧烷寡聚物(A),其通过可水解的烷氧硅烷部分水解后的缩聚反应获得,该烷氧硅烷含基本成分为通式(1):Si(OR)<SUB>4</SUB>(其中R表示甲基或乙基)的四烷氧硅烷,和具有氟代烷基结构和聚硅氧烷结构的化合物(B),该抗反射膜具有优良的防划性和耐污染性,且在相对短的时间内和相对低的温度下固化。
申请公布号 CN1412577A 申请公布日期 2003.04.23
申请号 CN02146838.9 申请日期 2002.10.15
申请人 日东电工株式会社 发明人 宫武稔;增田友昭;重松崇之;吉冈昌宏
分类号 G02B1/11 主分类号 G02B1/11
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 代理人 柳春琦
主权项 1.一种抗反射膜,具有直接在透明基质的一面或通过其它层制备的硬涂层,并进一步将抗反射层层压在硬涂层的表面上,其中抗反射层由从下列溶液获得的干燥固化膜制成,该溶液包含:硅氧烷寡聚物(A),其通过可水解的烷氧硅烷部分水解后的缩聚反应获得,该烷氧硅烷含基本成分为通式(1):Si(OR)4(其中R表示甲基或乙基)的四烷氧硅烷;以及化合物(B),该化合物具有氟代烷基结构和聚硅氧烷结构。
地址 日本大阪府