发明名称 薄膜电路基板的周边曝光装置
摘要 本发明系关于曝光具有穿孔之TAB带等之薄膜电路基板之不需要光阻之周边曝光装置。本发明之课题为提供:可以正确检测铜箔之边缘,能够精度好地控制照射区域之位置之薄膜电路基板之周边曝光装置。其解决手段为:一面搬运以指定之接续被设置穿孔PH之薄膜电路基板 TP,一面于薄膜电路基板TP上之导电体之周边部的光阻R照射曝光光以进行曝光。作为检测导电体之边缘部份之传感器,系使用光传感器4,以受光部4b接收照射于导电体之边缘部份之传感器光,使该受光量成为一定地,在与搬运方向正交之方向移动控制光传感器4,只与光传感器4相同量地移动曝光光之照射区域,使周边部曝光。上述传感器之薄膜电路基板TP上之照射区域之搬运方向之长度被设为穿孔PH之节距的整数倍,藉由此,可以正确追从导电体之边缘位置,能够曝光导电体之周边部之光阻R。
申请公布号 TW500981 申请公布日期 2002.09.01
申请号 TW090109064 申请日期 2001.04.16
申请人 牛尾电机股份有限公司 发明人 佐藤正则;村上悟司
分类号 G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 林志刚 台北巿南京东路二段一二五号七楼
主权项 1.一种薄膜电路基板的周边曝光装置,其系曝光周边部之光阻之薄膜电路基板的周边曝光装置,其特征为具备:将穿孔以指定之节距被设置之薄膜电路基板在一定方向搬运之手段;以及于被设置于该薄膜电路基板之导电体之周边部的光阻,由光照射手段照射具有指定之照射区域之曝光光之手段;以及由接受由投光部来之传感器光之光传感器所构成之边缘检测手段;以及在薄膜电路基板之搬运时,在与薄膜之搬运方向略正交之方向移动控制上述边缘检测手段之手段;以及使上述曝光光之照射区域在与上述边缘检测手段之移动方向以及移动量为相同方向只有相同量地移动之机构,由上述光传感器之投光部将薄膜电路基板搬运方向之长度为上述穿孔之节距的自然数倍之传感器光投光于上述薄膜电路基板上,以上述受光部接受照射于被设置在上述薄膜电路基板之导电体之边缘部份之传感器光,使该受光部之受光量成为一定地,藉由上述移动控制手段移动控制边缘检测手段之同时,藉由上述移动机构,使上述曝光光之照射区域移动。图式简单说明:图1系显示本发明之第1实施例之周边曝光装置之构成图(1)。图2系显示本发明之第1实施例之周边曝光装置之构成图(2)。图3系显示光传感器之设定方法图。图4系显示TAB带移动时之光传感器所接受之传感器光之样子图。图5系模型地显示铜箔蛇行之情形的周边被曝光之区域之图。图6系显示本发明之第2实施例之周边曝光装置之构成图。图7系说明齿条与小齿轮机构之动作图。图8系显示在薄膜电路基板之一的TAB带之一部份以及铜箔上涂布光阻之状态图。图9系显示薄膜电路基板上之铜箔的蛇行的样子图。
地址 日本