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Die Erfindung betrifft eine Halbleitervorrichtung und ein Verfahren zum Herstellen derselben. Um ein Schicht-Abschälen in einer solchen Halbleitervorrichtung mit wenigstens einer ferroelektrischen Schicht (14) und einer darauf gebildeten oberen Elektrode (17) zu verhindern, während die elektrischen Eigenschaften der ferroelektrischen Schicht (14) beibehalten werden, ist vorgesehen, dass die obere Elektrode (17) und die ferroelektrische Schicht (14) einen konvexen Bereich haben. Durch diese Gestaltung kann ein Schicht-Abschälen unterdrückt werden. Ein konvexer Bereich ist auf einer Schicht vorgesehen, jedoch kann auf einer Schicht auch eine Vielzahl von konvexen Bereichen vorhanden sein. Alternativ kann ein konkaver Bereich anstelle des konvexen Bereiches vorliegen.
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