| 主权项 |
1.一种有机电激发光显示面板之抗眩型聚亚醯胺 图素定义层之制造方法,其中该有机电光显示面板 包含复数个发光图素区域;包括: 于基板上形成一对应于发光区域之第一电极; 于第一电极之基板上涂布一非感光性抗眩聚亚醯 胺(polyimide)组成物,其中该抗眩型聚亚醯胺组成物 包含(1)聚亚醯胺前驱体(polyimide precursor)及(2)吸光 染料或颜料; 对涂布一抗眩聚亚醯胺前驱体层之基板进行第一 次预烤(prebake); 于抗眩聚亚醯胺前驱体层上涂布一光阻层; 对涂布光阻层及非感光性抗眩聚亚醯胺前驱体层 之基板进行第二次预烤(prebake); 使用光罩进行曝光及对光阻显影以形成具图样( pattern)之光阻层; 同时,对光阻显影并对抗眩聚亚醯胺前驱体层进行 蚀刻,以形成具图样(pattern)之抗眩聚亚醯胺前驱体 层,其中该抗眩聚亚醯胺前驱体层之图样系将第一 电极分隔成具有复数个不为图素定义层覆盖之画 素开口区域; 剥离光阻层;以及 加热烘烤包含非感光性抗眩型聚亚醯胺前驱体层 之基板,以交联硬化聚亚醯胺于形成抗眩型聚亚醯 胺图素定义层,且该抗眩型聚亚醯胺图素定义层于 第一电极上有复数个不为聚亚醯胺图素定义层覆 盖之画素开口区域。2.如申请专利范围第1项所述 之方法,其中更包含于抗眩型聚亚醯胺(polyimide)图 素定义层上形成一具有T形状顶部之条状光阻层。 3.如申请专利范围第1项所述之方法,其中包含加热 烘烤非感光性抗眩型聚亚醯胺前驱体层之基板系 加热烘烤至少至温度200℃以上。4.如申请专利范 围第1项所述之方法,其中该聚亚醯胺图素定义层 为复数平行长条并与第一电极形成垂直交错。5. 如申请专利范围第2项所述之方法,其中该条状光 阻层与第一电极形成垂直交错。6.如申请专利范 围第1项所述之方法,其中该光阻为正型光阻。7.如 申请专利范围第1项所述之方法,其中更包括于含 第一电极之基板上形成一条状光阻层,该光阻层系 突出于含第一电极之基板,且该条状光阻层之顶端 系与基板之平面平行。8.如申请专利范围第1项所 述之方法,其中更包括于条状光阻层间之暴露区域 之第一电极上沈积有机发光介质,以于第一电极上 形成复数个包含有机发光介质之第一电极区域;以 及于有机发光介质层上形成第二电极。9.如申请 专利范围第1项所述之方法,其中该第一电极与该 第二电极互相垂直。10.如申请专利范围第1项所述 之方法,其中该第一电极为透明。11.如申请专利范 围第1项所述之方法,其中该基板为透明。12.如申 请专利范围第1项所述之方法,其中于基板上形成 一对应于发光区域之第一电极前先形成辅助电极 层。13.一种有机电激发光显示元件,包括一基板, 复数个第一电极,复数个第二电极,抗眩型聚亚醯 胺图素定义层及复数个条状光阻层,及复数个有机 发光材料层; 其中抗眩型聚亚醯胺图素定义层由抗眩型聚亚醯 胺组成物所形成,该抗眩型聚亚醯胺组成物包含(1) 聚亚醯胺前驱体(polyimide precursor)及(2)吸光染料或 颜料; 且该复数个第一电极平行排列于基板上;该抗眩型 聚亚醯胺图素定义层位于包括第一电极之基板上; 该条状光阻层位于抗眩型聚亚醯胺图素定义层上 且该抗眩聚亚醯胺前驱体层之图样系将第一电极 分隔成具有复数个不为图素定义层覆盖之画素开 口区域;该光阻层系突出于含第一电极之基板,且 该条状光阻层之顶端系与基板之平面平行;有机发 光介质层沈积于第一电极上;第二电极沈积于有机 发光介质层上;且该条状光阻层系由包含光阻组成 物经光罩曝光、显影所形成。14.如申请专利范围 第13项所述之有机电光元件,其中聚亚醯胺(polyimide )图素定义层上系形成一具有T形状顶部之条状光 阻层。15.如申请专利范围第13项所述之有机电光 元件,其中该聚亚醯胺图素定义层为复数平行长条 并与第一电极形成垂直交错。16.如申请专利范围 第15项所述之有机电光元件,其中该条状光阻层与 第一电极形成垂直交错。17.如申请专利范围第13 项所述之有机电光元件,其中该光阻为正型光阻。 18.如申请专利范围第13项所述之有机电光元件,其 中该第一电极与该第二电极互相垂直。19.如申请 专利范围第13项所述之有机电光元件,其中该第一 电极为透明。20.如申请专利范围第13项所述之有 机电光元件,其中该基板为透明。21.如申请专利范 围第13项所述之有机电光元件,其中更包括复数个 辅助电极。图式简单说明: 第1图系本发明未蒸镀有机发光层与阴极材料前之 显示面板立体图。 第2图系抗眩型聚亚醯胺与其所定义出第一电极的 画素开口光学显微镜照片。 |
