摘要 |
<p>Verfahren zur Oberflächenbeschichtung von Apparaten und Apparateteilen für den chemischen Anlagenbau - darunter sind beispielsweise Apparate-, Behälter- und Reaktorwandungen, Austragsvorrichtungen, Armaturen, Pumpen, Filter, Verdichter, Zentrifugen, Kolonnen, Wärmetauscher, Trockner, Zerkleinerungsmaschinen, Einbauten, Füllkörper und Mischorgane zu verstehen - gekennzeichnet dadurch, dass man auf der zu beschichtenden Oberfläche Erhebungen einer mittleren Höhe von 100 nm bis 50 νm in einem mittleren Abstand von 100 nm bis 100 νm erzeugt und darauf die Beschichtung durch stromloses Abscheiden einer Metallschicht oder einer Metall-Polymer-Dispersionsschicht mit Hilfe eines Galvanisierbades vornimmt, das einen Mettall-Elektrolyten, ein Reduktionsmittel sowie optional ein abzuscheidendes Polymer oder Polymergemisch in dispergierter Form enthält.</p> |