发明名称 METHOD FOR FORMING A THIN FILM
摘要 <p>막 특성의 흩어짐을 억제하는 스퍼터링 법을 제공한다. 가스 도입과 함께 제1 레벨의 방전 전력 인가로 1회째의 아이들링(idling) 방전(기간t), 제1 레벨보다도 낮은 제2 레벨의 방전 전력 인가의 중간 아이들링 방전(기간t), 및 제1 레벨의 2회째의 아이들링 방전(기간t)을 순차로 행하고, 스퍼터링 가스 및 아이들링 방전에 의한 중간 생성물의 압력의 안정화를 도모한다. 방전 전력을 제2 레벨로 하여 셔터를 열고, 1매 째의 기판에, 예를들면 ITO 박막을 형성한다(t). 이하, 순차로, 기판으로의 ITO 박막 형성을 반복하여 실시한다.</p>
申请公布号 KR100302430(B1) 申请公布日期 2001.09.26
申请号 KR19990009174 申请日期 1999.03.18
申请人 null, null 发明人 고바야시가즈노리;이시하라도모아키;나카무라아키라;노부사다도시히데
分类号 H01B13/00;C23C14/00;C23C14/08;C23C14/34;C23C14/56 主分类号 H01B13/00
代理机构 代理人
主权项
地址