| 主权项 |
1.一种光栅影像制作方法,至少包含以下各部分:(1)同调光源,提供产生干涉驻波之光源。(2)曝光控制装置,控制形成光栅的曝光量。(3)导光装置,导引同调光至所须之位置。(4)对称光产生装置,将一道同调光分成位置互相对称之两道同调光。(5)局部扫描装置,将两道同调光聚光至感光物质上,形成干涉驻波,并可改变干涉驻波形成之位置。(6)感光物质,将干涉驻波以光栅的形成记录。(7)感光物质承载装置,承载并移动感光物质。2.依申请专利范围第1项所述之光栅影像制作方法,其中所谓之导光装置,是利用扫描反射镜而达成者。3.依申请专利范围第1项所述之光栅影像制作方法,其中所谓之导光装置,是利用声光偏折器而达成者。4.依申请专利范围第1项所述之光栅影像制作方法,其中所谓之对称光产生装置,是利用分光镜及鸽尾棱镜而达成者。5.依申请专利范围第1项所述之光栅影像制作方法,其中所谓之局部扫描装置,是利用扫描反射镜及透镜而达成者。6.依申请专利范围第1项所述之光栅影像制作方法,其中所谓之局部扫描装置,可利用可平移之透镜而达成者。7.依申请专利范围第1项所述之光栅影像制作方法,其中所谓之局部扫描装置,亦可利用声光偏折器及透镜而达成者。图式简单说明:第一图:形成光栅的基本方法示意图。第二图:常用的形成光栅方法示意图。第三图:第二图之俯视图。第四图:先前技术示意图。第五图:本发明之构想方块图。第六图:本发明之导光控制装置之一。第七图:本发明之导光控制装置之二。第八图:本发明之对称光产生装置。第九图:本发明之局部扫描装置之一。第十图:本发明之局部扫描装置之二。第十一图:本发明之局部扫描装置之三。第十二图:本发明之可行例参考图。 |
