Halbleiterfabrikautomatisierungs-System und Verfahren zum Steuern einer Messanlage zur Messung von Halbleiterwafern

摘要

Ein Verfahren zum Steuern einer Messanlage zur Messung von Halbleiterwafern in einem Halbleiterfabrik-Automatisierungs-(FA)System umfasst die Schritte: a) Festlegen eines Kommunikationsmodus zwischen einem Bedienerschnittstellenserver und der Messanlage aus einer Offline-Kommunikation zu einem Online-Kommunikationsmodus; b) Laden einer die Halbleiterwafer enthaltenden Halbleiterwafer-Kassette in die Messanlage; c) Senden eines Messrezepts und eines direkt von einem Bediener eingespeisten Befehls an die Messanlage, wobei das Messrezept einen Satz an Messbedingungen entsprechend der Halbleiterwafer-Kassette repräsentiert, und der Befehl Steuerbefehle zum Steuern der Messanlage umfasst; d) Messen der in der Halbleiterwafer-Kassette enthaltenen Halbleiterwafer gemäß dem Messrezept, wodurch Messdaten erzeugt werden; e) Vergleichen der Messdaten mit Referenzdaten, um zu bestimmen, ob die Messdaten konform sind; f) der Messanlage den Befehl erteilen, die Halbleiterwafer erneut zu messen, wenn die Messdaten nicht konform sind; und g) Speichern der Messdaten in einer Echtzeitdatenbank.